微波等离子清洗机

JMD-ZKW系列
一、清洗工件:硅晶圆、引线框架、金PAD、铝PAD、血管支架、微流控芯片、IOT玻璃、太阳能电池板等;二、污染物类型:1.有机污染物‌:如油脂、胶水残留、指纹印等碳氢化合物污染物。 ‌2.无机污染物‌:如金属氧化物(如氧化铝)、硅基材料表面的颗粒残留。 ‌3.颗粒杂质‌:微小尘埃、金属碎屑等表面附着物。
Parameter

规格参数


型号JMD-ZKW系列
整机尺寸(mm)900(长)×888(宽)×2000(高)
真空舱室材质:6061铝合金
尺寸(定制选配:长x宽x高mm)
260x260x300\300x300x400\400x400x500\500x500x500
极限真空:≤5Pa
微波泄露≤0.5mW/cm2
泄露率≤5e-10 Pa·m3/s
恒压控制:设备运行期间腔体内气压波动≤±5%
真空舱门材质:6061铝合金
观察窗:玻璃(带屏蔽装置)
工作台直径:360mm;具备水平旋转功能,可实现连续旋转、90°间歇旋转和180°间歇旋转
晶圆托盘(托架)6061铝合金;根据应用对象适配定制晶圆托盘或适配工装  
微波系统输出频率:2.45GHz
功率调节:100W-1250W
真空规管皮拉尼真空传感器,精度0.1Pa
量程(pa):1×10-2~1×105
通讯接口:RJ45
安装接口:KF16
工艺气路系统4路工艺气体通道(316L不锈钢材质)
4个质量控制流量计
流量范围:0-500sccm
流量控制精度±0.5%
设备运行期间腔体内气压波动≤±5%
泄露率≤5e-10 Pa·m3/s
控制系统操作方式:鼠标+键盘
控制模式:自动/手动
硬件:工控机+显示器
触摸屏尺寸:≥14寸(根据具体需求配置)
软件功能在工艺过程中实时监控并显示设备的运行状态,并在故障情况发生时给出报警提示

①具备气体流量、微波功率、微波处理时间、工作腔真空度实时监测和数值调控能力,可在主控制屏实现调控。

②具备气压过低、微波磁控管超温、微波输出异常、工艺气体流量控制超出设定范围以及工艺气压超设定范围报警能力,并在主控制屏显示相关状态。
真空泵(干泵)接口:KF40
型号:VSP80 ; 抽速80m3/h
供电 : 380V ;50/60Hz
将工作腔从大气压真空抽到20Pa时间≤80s
最大工作噪音<65dB
去污性能4-8inch硅晶圆接触角<15°
引线框架接触角<20°
金PAD接触角<12°
铝PAD接触角<12°
血管支架涂层结合力提升40%以上
微流控芯片键合后,键合处强度>本体强度
IOT玻璃接触角<18°
太阳能电池板接触角<15°
清洗均匀性(同批次不同位置物料与不同批次物料间均适用)
4-8inch硅晶圆任意位置水滴角差≤±5°
引线框架任意位置接触角差<6°
金PAD任意批次水滴角差≤±5°
铝PAD任意批次水滴角差≤±5°
血管支架任意批次涂层结合力提升40%以上
任意批次微流控芯片键合后,键合处强度>本体强度
IOT玻璃任意位置水滴角差≤±6°
太阳能电池板任意位置水滴角差≤±5°


Particulars

产品详情

1、PLC+人机界面控制,操作简单

2、支持权限分级+独立密码锁

3、可切换手动模式或自动模式

4、具有多种互锁功能,保证设备使用安全

5、真空舱体分层设计,根据处理产品大小灵活使用

6、高真空度舱体设计及制造工艺,拥有优良的密封性

7、底部安装福马轮脚轮,助停方便牢固,高度可调节,可防尘

8、超温、过载、短路等异常提示和报警功能

9、独特的放电技术,等离子形成均匀稳定,保处理效果更出众

10、超低温处理,不损伤基材,兼容各种材料

11、可去除有机物、无机物、氧化层等多种污染物,可对硅晶圆、金PAD、铝PAD等表面进行清洗; 

12、清洗后表面污染物去除干净,接触角<20°(8inch硅晶圆),清洗后,同批次晶圆,任意晶圆的任意位置水滴角差≤±5°,批次间水滴角差≤±5°(8inch硅晶圆)

13、具备全自动滴液、多点测试、测试结果分析能力


真空式等离子清洗机广泛应用于半导体、生物医疗、光学光电、航空航天、汽车工业、纺织印染、橡胶塑料、科研及通用工业等领域。


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